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Mercredi 14 mai 2014
08:30 Accueil et café de bienvenue
09:00 Chemisches Entgraten und Elektropolieren (D), Ébavurage et polissage électrolytique; Jörg Romann, Elpochem AG, Volketswil.
09:30 Effizient und ökologisch «Chemisch Entgraten» (D), l'ébavurage chimique, efficace et respectueux de l'environnement ; Manfred Beck, Erne surface AG, Dällikon.
10:00 Pause café et visite de l'exposition
11:00 Ultraschall-unterstützte Reinigung als Vor- und Nachbehandlung in der Oberflächentechnik (D), Nettoyage à l'aide de l'ultrasons en tant que pré-et post-traitement dans le traitement de surface; PD Dr. habil. Christiane Jung, KKS Ultraschall AG, Steinen.
11:30 Reinigen und Aktivieren von Kunststoff- und Metalloberflächen durchNiederdruckplasma (D), Nettoyage et activation de surfaces plastiques et métalliques par plasma à basse pression; Dr. René Lewinski, PINK GmbH, Wertheim (D).
12:00 Lunch
14:00 Wie sauber ist die Oberfläche? - Chemische Oberflächenanalytik mittels XPS (D), Comment qualifier la propreté d'une surface? - Analyse chimique de surface par XPS; Dr. Roman Heuberger, RMS Foundation, Bettlach.
14:25 Was Tisch-Elektronenmikroskope heute können (D), Capacité des microscopes de table d'aujourd'hui; Martin Bossard, Schaefer-Tec AG, Kirchberg.
14:50 Charakterisierung von mittels „Micro Arc Oxidation“ hergestelltenOberflächen (D), Caractérisation de l'utilisation de «oxydation par micro-arc» en traitement de surface; André Kaufmann, Helmut Fischer Technologie AG, Hünenberg.
15:15 Apéro et visite de l'exposition
15:35 Revêtement dur : analyse de l'usure par microscopie holographique numérique (F); Bastian Meylan, Empa, Thun
16:00 Korrelation von Licht- und Elektronenmikroskopie sowie weiterenAnalysemethoden (D), Corrélation entre microspopie optique et électronique ainsi que d'autres méthodes d'analyse; Christof Scherrer, ZHAW Zürcher Hochschule für Angewandte Wissenschaften,
Winterthur
16:25 Mot de la fin
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